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3.1 二氧化硅薄膜概述讲义
huangqq 47
4.5 溅射
huangqq 41
4.2 CVD工艺方法
huangqq 40
4.5 溅射-优化
huangqq 32
实验一 初识软件
huangqq 42
实验三 氧化仿真实验
huangqq 43
实验二 离子注入
huangqq 45
6.3 CMOS集成电路工艺
huangqq 41
6.2 隔离工艺
huangqq 42
6.1 金属化互连
huangqq 43
5.6 干法刻蚀
huangqq 43
5.5 湿法刻蚀
huangqq 44
5.4 曝光技术
huangqq 44
5.3 光刻胶
huangqq 41
5.2 光刻掩模版的制造
huangqq 42
5.1 光刻工艺概述
huangqq 40
4.4 真空蒸镀
huangqq 38
4.3 PVD概述与真空
huangqq 37
4.1 CVD概述及原理
huangqq 39
3.9 退火
huangqq 37