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3.1 二氧化硅薄膜概述讲义
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实验二 离子注入
15
5.6 干法刻蚀
15
5.5 湿法刻蚀
15
3.2 硅的热氧化
15
4.1 CVD概述及原理
15
实验一 初识软件
15
4.2 CVD工艺方法
15
实验三 氧化仿真实验
15
4.5 溅射
15
6.3 CMOS集成电路工艺
15
6.2 隔离工艺
15
6.1 金属化互连
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5.4 曝光技术
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5.3 光刻胶
15
5.2 光刻掩模版的制造
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