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3.2 硅的热氧化讲义
53
3.1 二氧化硅薄膜概述讲义
48
2.4 分子束外延与其他外延方法讲义
54
2.3 气相外延讲义
52
2.2 硅衬底的制备讲义
51
2.1 单晶硅特性讲义
51
1.1 集成电路制造技术简介讲义
54
实验一 初识软件讲稿-优化
58
实验三 氧化仿真实验-优化
56
实验二 离子注入讲稿-优化
58
6.3 CMOS集成电路工艺-优化
56
6.2 隔离工艺-优化
56
6.1 金属化互连-优化
56
5.6 干法刻蚀-优化
56
5.5 湿法刻蚀-优化
56
5.4 曝光技术-优化
58