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智能硬件制造工艺 扫码继续查看
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资源(93) 时长( 06:38:37) 播放量(34401)
1.1集成电路发展历程及工艺特点-优化 / 374
2.1 单晶硅特性-优化 / 962
2.2 硅衬底的制备--优化 / 947
2.3 气相外延--优化 / 954
2.4 分子束外延与其他外延方法--优化 / 956
实验一 初识软件讲稿-优化 / 313
3.1 热氧化概念及二氧化硅薄膜概述-优化 / 308
3.2 硅的热氧化-优化 / 302
3.3 氧化层质量及检测-优化 / 302
3.4 扩散机构及杂质的扩散-优化 / 365
3.5 热扩散工艺的条件和方法-优化 / 303
3.6 扩散工艺质量与检测-优化 / 264
3.7 离子注入概述及原理-优化 / 258
3.8 注入离子在靶中的分布-优化 / 267
3.9 退火-优化 / 303
实验二 离子注入讲稿-优化 / 314
实验三 氧化仿真实验-优化 / 315
4.1 CVD概述及原理——优化 / 306
4.2 CVD工艺方法——优化 / 313
4.3 PVD概述与真空——优化 / 305
4.4 真空蒸镀——优化 / 265
4.5 溅射-优化 / 290
5.1 光刻工艺概述-优化 / 310
5.2 光刻掩模版的制造-优化 / 356
5.3 光刻胶-优化 / 303
5.4 曝光技术-优化 / 310
5.5 湿法刻蚀-优化 / 311
5.6 干法刻蚀-优化 / 312
6.1 金属化互连-优化 / 319
6.2 隔离工艺-优化 / 313
6.3 CMOS集成电路工艺-优化 / 315
1.1 集成电路制造技术简介讲义 / 305
2.1 单晶硅特性讲义 / 298
2.2 硅衬底的制备讲义 / 304
2.3 气相外延讲义 / 304
2.4 分子束外延与其他外延方法讲义 / 323
实验一 初识Silvaco Tcad软件讲义 / 313
3.1 二氧化硅薄膜概述讲义 / 336
3.2 硅的热氧化讲义 / 304
3.3 氧化层质量及检测讲义 / 303
3.4 扩散机构及杂质的扩散讲义 / 307
3.5 热扩散工艺的条件和方法讲义 / 302
3.6 扩散工艺质量与检测讲义 / 299
3.7 离子注入概述及原理讲义 / 302
3.8 注入离子在靶中的分布讲义 / 309
3.9 退火讲义 / 309
实验二 离子注入讲义 / 309
实验三 氧化仿真讲义 / 315
4.1 CVD概述及原理讲义 / 314
4.2 CVD工艺方法讲义 / 312
4.3 PVD概述与真空讲义 / 308
4.4 真空蒸镀讲义 / 307
4.5 溅射讲义 / 367
5.1 光刻工艺概述讲义 / 313
5.2 光刻掩模版的制造讲义 / 306
5.3 光刻胶讲义 / 305
5.4 曝光技术讲义 / 317
5.5 湿法刻蚀讲义 / 308
5.6 干法刻蚀讲义 / 309
6.1 金属化与多层互连讲义 / 307
6.2 隔离工艺讲义 / 310
6.3 CMOS集成电路工艺讲义 / 271
1.1集成电路发展历程及工艺特点 00:13:37 397
2.1 单晶硅特性 00:20:01 1206
2.2 硅衬底的制备 00:11:40 1020
2.3 气相外延 00:12:42 1241
2.4 分子束外延与其他外延方法 00:11:27 928
实验一 初识软件 00:20:12 299
3.1 二氧化硅薄膜概述 00:10:16 275
3.2 硅的热氧化 00:19:26 297
3.3 氧化层质量及检测 00:07:35 295
3.4 扩散机构及杂质的扩散 00:15:38 388
3.5 热扩散工艺的条件和方法 00:09:38 293
3.6 扩散工艺质量与检测 00:08:34 271
3.7 离子注入概述及原理 00:07:23 382
3.8 注入离子在靶中的分布 00:09:00 271
3.9 退火 00:09:48 292
实验二 离子注入 00:17:59 303
实验三 氧化仿真实验 00:12:02 295
4.1 CVD概述及原理 00:12:25 293
4.2 CVD工艺方法 00:16:23 308
4.3 PVD概述与真空 00:07:11 293
4.4 真空蒸镀 00:11:08 274
4.5 溅射 00:16:10 300
5.1 光刻工艺概述 00:18:33 296
5.2 光刻掩模版的制造 00:10:26 365
5.3 光刻胶 00:13:40 296
5.4 曝光技术 00:18:17 302
5.5 湿法刻蚀 00:11:37 301
5.6 干法刻蚀 00:15:25 300
6.1 金属化互连 00:12:57 294
6.2 隔离工艺 00:08:23 298
6.3 CMOS集成电路工艺 00:09:04 297
创建者
huangqq

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所属分类：

江开本科 - 物联网工程（本科）

人群： 大众

知识体系： 工学

主持人： 黄倩倩
主讲老师： 王昕
版权归属： 江苏开放大学版权
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关键词
智能硬件制造工艺
  • 创建于：2024-12-10
  • 最近更新：2024-12-10